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標題: 有人可以分享POWERMOS的畫法嗎 [打印本頁]

作者: samgu    時間: 2010-5-17 10:19 AM
標題: 有人可以分享POWERMOS的畫法嗎
我的layout工作,主要就是在畫POWERMOS! _5 z% C2 I! G- W
工作這幾年間嘗試很多做法,但是一直無法找到+ p3 I( w) Y8 u  p; P
一個最佳的layout,也可能因為我迷失了,希望可以透過大家的經驗,
4 Z- W; Y% t( i) d' j  l9 ?$ V激盪出一些新的想法,請大家賜教,謝謝
7 n3 n) i! E. R5 P+ T) [* P
( `7 l6 ^+ z) P4 L簡單說一下我的心得,
# s  z) ?1 {- a  ~" f1.若用MIN的RULE來畫MOS,相同的面積可以得到最大的width,最佳的Ron,最大的電流; ?: K' G3 ~; a) c- @
   但是必須承受ESD是否會對MOS造成破壞,因為DCG為 MIN RULE" L4 ^3 {; R6 V4 [2 N5 d
2.若為了兼顧ESD則會浪費面積,犧牲Ron8 c/ ~4 ]/ r- {  D: I# N6 o5 n
3.若要兩者兼顧,面臨的問題則是 1.ESD rule 要放多大,2.butting contact and source contact 不足
作者: pph_cq    時間: 2010-5-17 10:33 AM
我们一般在最小rule基础上适当放大,比如最小contact to poly是0.4,我们可能会取1,如果觉得太浪费面积,可以用bent gate或waffle结构节省面积。
作者: shangyi    時間: 2010-5-18 01:20 AM
看過finger, waffle, 井型, 六角形的畫法
; X& r# g2 X7 R0 I; C4 g
7 T) H; s# Q% S. v/ w那種比較好... 我也不清楚哩!
作者: 腳踏    時間: 2010-5-18 10:29 AM
看過finger, waffle, 井型, 六角形的畫法
& B# E$ o8 S+ f4 k4 S
" X# Q* }' s' X- V那種比較好... 我也不清楚哩!
3 T* z* w& A' Kshangyi 發表於 2010-5-18 01:20 AM

7 P5 I0 _8 l* a2 z! j! A' \, h' x' c! x/ t5 a5 m/ t

6 n( d$ R2 B3 o    我也想知道那一個比較好! I+ q  C! U( g7 ?8 i$ Q/ q
   有人知道嗎
作者: shmiyi    時間: 2010-5-18 01:52 PM
要從製程上研究MOS的變化~~
$ @' d% N4 c2 k# m相同製程不家的MOS的參數變化不一~1 D- T5 S+ v. V/ P
即代表I-V CURRENT
* W4 t8 }( w, _, s( s. g% {, x所以我覺得好像不是看畫法8 l. R3 S% q% p: B( b2 d. G( L; B
要從看MOS的特性去研究~~
作者: jacky_123    時間: 2010-5-19 02:15 PM
感謝你們的分享~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
作者: yuany    時間: 2010-6-9 01:23 AM
学习一下~~~~~~~/ d' }7 G: E4 ^; v" @0 x

  c, T' Z; M2 z9 O呵呵
作者: junxingyu    時間: 2010-8-7 09:10 AM
Nmos放两列cont比较好,Pmos单列就ok啊,如果W比较小还可以另外做ESD
作者: semico_ljj    時間: 2010-8-9 10:20 AM
回復 8# junxingyu 4 z! U* |& [6 F3 _% B/ p
- H- J4 A% S: R, Y2 x
這個說法倒是不了解!請問是經驗嗎?
作者: semico_ljj    時間: 2010-8-9 10:21 AM
其實最有效(area最小)的是waffle, 井型, 六角形等,但是要process支持,還要留片驗證!
作者: spiritpillar    時間: 2012-3-1 08:27 PM
感謝分享感謝分享感謝分享感謝分享
作者: photoss    時間: 2012-4-9 08:27 PM
最近正在研究powermos的畫法,挺受用的,感謝大大分享
作者: liu.leon    時間: 2012-4-9 08:54 PM
finger,井型, 六角形的畫法,再搭配ESD rule以1:4畫法,
作者: stephen_jjh    時間: 2012-4-10 10:35 AM
各位的这些方法请问有图片作参考吗??没花过POWERMOS的表示很无奈啊= =
作者: photoss    時間: 2012-4-10 05:17 PM
现在急寻power mos画法现在急寻power mos画法
作者: 930709    時間: 2012-5-12 09:40 PM
看是面積還是效能阿!!
4 r7 B" o& K* }  i可以給我一些不同的意見嗎?
作者: jameslin    時間: 2012-8-28 10:57 PM
正學習POWERMOS的畫法,感謝分享!
作者: alex13    時間: 2013-2-13 10:44 AM
回復 10# semico_ljj
# |% n) s4 n7 [" _! i
  a$ @& f  R% ^, Z* g3 M
( a1 U* w- L% {    小弟問一個蠢問題,Area最小是指Ron相同的前提下嗎?
2 o& l$ x- M; F8 b! x感謝先進不吝指點,多謝!
作者: astrajen    時間: 2013-3-5 03:17 PM
看不懂。我想只是PowerMos應該考慮的是散熱及最大電流吧。最大電流與線寬直接相關,散熱與面積直接相關,應該都有規格表可以参考吧。
作者: sd5517805    時間: 2013-3-21 10:52 PM
一般在最小rule基础上适当放大,比如最小contact to poly
作者: polar11    時間: 2013-4-14 02:15 PM
適當的將source contact to poly距離放大(ex x2) 可以得到比較好的結果
作者: m851055    時間: 2013-4-15 09:34 AM
奈電流量與area相關。若需考量ESD問題,一般ESD Drain contact是Source的4倍以上。
作者: o_alice    時間: 2013-4-22 02:10 PM
謝謝各位的分享了,學習了
作者: flank0122    時間: 2013-6-30 01:46 PM
回復 5# shmiyi
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    這位大大說得滿有道理的~~推
作者: chengchishun    時間: 2014-5-21 07:19 PM
1.若用MIN的RULE來畫MOS,相同的面積可以得到最大的width--> width 夠大 ESD 應該還好吧
作者: 930709    時間: 2014-8-6 04:20 PM
感謝你們的分享~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
作者: bbok7979    時間: 2014-10-5 10:29 PM
謝大大們的心得,長知識囉 ^^
作者: sainwu    時間: 2015-12-30 11:57 AM
謝謝大大們的說明./ E0 P) m$ p. L% v7 y
8 p: A) s) e7 {2 v6 g  j1 ~
了解許多
作者: AIC6632    時間: 2016-1-7 10:46 PM
這應該是designer要提供的吧3 v) j# U# h- n! L2 \
而不是layout決定的




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