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標題: 晶片廠商日子艱難摩爾定律不再有效？ [打印本頁]

作者: chip123 時間: 2006-6-14 03:48 PM
標題: 晶片廠商日子艱難摩爾定律不再有效？
這兩句話，會不會打擊大家的信心啊!?

當摩爾定律去年邁入40週年時，Gorden Moore說：「摩爾定律」短期內不會壽終正寢！當英特爾執行長Craig Barrett在去年IDF（英特爾科技論壇）演講上預測：「摩爾定律依然嚇嚇叫」！ 2002年時，台積電技術長胡正明也說有把握「摩爾定律」還可以再走20年以上！

底下這篇文章的標題，前一句話描述的可能是現在進行式，後一句話則可能是未來完成式!?因為大家都心知肚明：「隨著電晶體電路逐漸接近性能極限，這一定律終將走到盡頭。摩爾定律何時失效？專家們對此眾說紛紜」。

晶片廠商日子會更加艱難摩爾定律不再有效
http://www.52rd.com/S_TXT/2006_6/TXT4291.HTM

[quote:91abfaf868]預計在未來的數年內，晶片生產商家將是困難叢生。

　　晶片廠商計畫到2007年晚些時候開始生產0.045微米工藝的晶片，他們接著將在兩年後將生產工藝推進到0.032 微米。生產出來的這種晶片速度將更快、能耗量會更低、集成的電晶體更多、而且製造成本會也更低些。

　　儘管採用0.045微米工藝的手機晶片在性能提高30%的情況下，能耗量反而會降40%，而且消費者不需要擔心電池使用時間，可以在手機上玩遊戲或看電視節目。然而，生產這種晶片將會是困難重重，而且廠商們不得不修改它們目前使用的基本材料和工藝。若有失誤就會意味著將落後于其競爭對手們幾個季度的時間。據德州儀器生產工藝部門的主管彼特表示，在向0.045微米工藝的過渡中會存在幾種使過渡比較艱難的因素，但對我們來說，這不是第一次首次遇到這樣的困難。

　　各大晶片廠商以及大學的研究人員將于本周出席IEEE贊助的2006 Symposium on VLSI Circuits。英代爾公司將在這次會議期間闡述由它開發的三柵極電晶體。據英代爾公司元件研究部門的主管邁克表示，在能耗量相同的情況下，三柵極電晶體的性能將提高35%。雖然這樣的原型產品已經被開發出來，但三柵極電晶體不會被應用在英代爾公司的0.045微米工藝中。他表示，我們認為0.032微米和0.022微米工藝用上三柵極電晶體還是很有機會的。但他對英代爾公司是否將會在0.045微米工藝中用金屬取代多晶矽方面拒絕發表評論。

　　同時，德州儀器公司將展示一個僅僅佔用0.24 平方微米的0.045微米工藝的SRAM記憶體單元，到目前為止，它的這一尺寸與其他廠商的類似產品相比較小大約30%。它能夠減小SRAM單元尺寸的原因就在於它採用了浸沒光刻技術。另外，德州儀器公司還對其生產工藝中的許多別的方面進行了改進。它在採用浸沒光刻技術方面搶先于其競爭對手。IBM公司計畫在2、3年後的0.032微米工藝中採用其Nemo浸沒光刻技術；儘管計畫在0.045微米工藝中採用，但英代爾可能在0.032微米工藝中採用浸沒光刻技術。它計畫在2007年晚些時候向廠商交付0.045微米工藝晶片，它是第一批批在2005年末交付0.065微米工藝晶片的廠商之一；而德州儀器公司計畫在2007年晚些時候生產0.045微米工藝晶片樣品，商業化生產則需要等到2008年。Freescale公司計畫在這次會議上展示其據說可將晶片能耗量降低30%的矽絕緣技術。但它沒有表示是否會將這一技術應用於0.045微米工藝。AMD公司則計畫在2008年年中開始生產0.045微米工藝晶片。

　　據業界人士認為，摩爾定律將在0.022微米工藝晶片於2012或2014年問世後不再有效。到那時晶片廠商不得不採用電晶體之外的新結構傳輸信號，這由於繼續縮小電晶體在經濟上已經不再可行了。但也有許多人士認為，納米技術將使電晶體的壽命再次延長幾年時間。[/quote:91abfaf868]

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