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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 顯示全部樓層
回復 1# scy8080 5 _/ P% B+ J% a1 Z

. U3 x8 Y/ k/ K# c9 D; t: v+ N+ a% s( R! ]6 K
   8 _0 h1 {# n' d
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
0 O) n! q/ k$ q- ^很可能打坏core里的device。
# x' Y2 z: U* C, j 
2#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 顯示全部樓層
最好不要超過 1 ohm,谢谢4 Z& _% S; X, j* X) n9 P$ h; L
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...# \- x8 W# j- Q
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
9 X& ~, ^+ }/ }2 w3 ^
, K* y- C7 N" y1 h5 _
: L! @; w& R1 K9 g$ ^, v4 ~9 ~
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是$ b, P: p; E; f, k3 I8 s# ?
很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
3 l* ~7 W& P. m, j来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
3#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 顯示全部樓層
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
( d; e/ N2 @, R% Y6 \" f1 w- T  u0 Jscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
, h# b9 @) s5 f7 I7 ]

! e; N) }. {" O拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),9 _) F7 ?" a" m; U
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管! j, |: Z5 h- r+ ^$ G
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多0 d! @' `2 m) z8 H# x( O
npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
' a  k- A1 ?4 _. n! Z必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
( Y4 s& O* g0 v: ?暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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