本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯
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' J4 O+ D5 K8 s0 ], j. B表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)
7 g. n/ R2 h3 r2 a. r1 E2013排名
5 w1 \. a/ Q% Z | 2012
$ b* e2 W! n8 y. a' b# M$ Y排名7 {$ _4 C1 m+ t& L
| 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 14 n' n" u/ Y5 n9 A% a, Y
| 1
9 j2 X3 R$ `8 |7 ?( W | 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2. N) u1 I5 A0 Z
| 2
9 ? O' F8 h0 x* t9 u' f' {& t* w | 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 39 ]! h4 _& U4 K) t
| 4
' `9 J. M, q0 ^1 k$ z' P1 u7 t | 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4
/ p/ o3 c7 W9 }- R( d | 3( _, ~, b, p; ^
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 5
' {& o* x# A9 `- ? | 5, u+ a' I+ r/ x; p- o8 M) p3 t
| 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 6- w; W6 Q0 _0 R5 K9 P$ [3 V4 Z* T& i
| 69 v4 R& \' r, g5 F& e3 @
| Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7
0 c' V4 Y+ t6 h$ U1 x+ m) b1 R | 8
# U# x$ o- r% M6 u6 b3 V3 A | 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 8. d# J* b' [& i
| 7
3 s5 d. p; G. O7 D0 L! M0 V | 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9
1 r& ?9 I% q8 O' e | 11/ |6 Z/ P! M2 \
| 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10
& f/ H" w$ i) W Z' q" l | 9" |. g" ?, p q5 d% B( F* u4 O3 n. W
| Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 | * c+ [, H/ L2 k3 s
|
3 |; g# F5 R" R7 ?0 N | 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 | * U. u" Y9 L; d0 x) I
|
) H/ h1 `! C, ? | 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月)
/ X2 M; f# S0 o( l1 kRinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」 5 s$ X6 X% F- W4 h/ n r
2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。 ; s# \! r! `1 q: [
在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |