2007 新世代電子技術國際論壇

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-美、日知名技術專家暨工研院權威，與您分享新世代的電子技術發展
2007新世代電子技術國際論壇力邀美、日知名技術專家暨國內電子相關趨勢研究權威共同蒞臨，分享新一世代的電子技術暨市場發展趨勢。全球電子技術日新月異，首要以高密度電子、軟性電子暨元件內埋技術發展最為熱門；此外，光電電路亦是新一代電子技術發展的重點；而身為地球公民，具環保趨勢技術的『節能技術』及『新材料』也是產業未來的重點趨勢之一。為讓電子產品的應用領域能更新、更廣，新世代電子技術將顛覆傳統電子產品的型態，也讓創新概念在電子產品上進行無窮的發揮。

【日期】2007年10月30日 (Tue.) ~10月31日 (Wed.)
【地點】新竹市光復路二段321號工研院光復院區17館國際會議廳
【論壇資訊】議題包括：

　全球2015趨勢下3C電子的未來發展：高密度電子技術與市場趨勢/高密度電子設計
　軟性電子技術(噴印電路板技術)
　環保技術(節能、材料) / 元件內埋技術
　光電電路技術發展現狀
　國際標準現狀(光電電路、軟性電路)

【講師介紹】
•Ms.Audrey Sytsma/General Manager for IPC Shanghai
•陳潤明博士 (Dr. Thomas Chen) / 工研院材料所研究員
•柴田明一博士 (Dr. SHIBATA, Akokazu)/日本電路板協會
•邱國展博士 (Dr. Jeffrey Chiou) / 工研院材化所研究員
•管沼克昭教授(Prof. Katsuaki Suganuma)/日本大阪大學教授
•李俊興先生 (Mr. Lee Jun-Hsing) / 工研院電光所
•李建成先生 (Mr. Jason Lee) / 先鋒科技研發部副總

【費用】每人NT$10,000/2天 (含講義、餐點、場地費、稅金)
http://www.itri.org.tw/chi/news_ ... 182&smncd=16182