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樓主: lnxmj
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[問題求助] 天线效应中,跳线至顶层metal的作用。

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21#
發表於 2010-7-10 11:55:39 | 只看該作者
Antenna只会发生在Gate上,主要是Gate下的Oxide很薄,无法承受大的电场;  V2 Y9 T1 }! ]7 R' G5 t* @
而且Antenna不是发生在CHIP应用过程,而是生产过程中,主要与Etching是使用plasma的情况有关,plasma会造成与Gate相连的金属上积聚电荷,过多的电荷会产生超过gate下栅氧化层承受能力的电场,产生击穿;! {9 `1 c. K$ c, A
所有无论用哪一层金属,面临的问题是一样的,有时候金属jumper到顶层,仍然无法解决Antenna问题,只能增加反向二极管来解决此问题。
22#
發表於 2010-7-29 11:04:31 | 只看該作者
受益匪浅!谢谢!
/ W0 g7 m4 h& @: Z, u终于搞明白了,原来只知道添加跳线和保护二极管,知其然不知其所以然,今天才明白
23#
發表於 2010-8-9 17:18:49 | 只看該作者
解决这个问题需要了解一下天线效应和IC制造流程,这&#26 ...& e0 Z' T" f4 g6 Z
fabc 發表於 2009-10-9 01:50 PM

( B* ]& E) D3 h4 ~6 r" s
  }% m  @. h6 H! X2 p0 ^8 K7 {% v+ t/ a; r' K# F6 C% ~) {
    同意这样的看法,简单明了点,具体还带了解工艺流程。
24#
發表於 2010-9-22 21:53:33 | 只看該作者
在process製造和芯片工作中,會有很多不“聽話”的載流子在芯片中到處亂跑,而chip當中的比較大,長,並且導電性比較好的layer,比如metal,往往就成为吸收这些载流子的“容器”,这个就像避雷针的原理一样。当吸收的载流子过多,能量达到一定程度的时候,这个能量就会在电路中的一个比较薄弱的地方释放出去,而这个地方,往往就是gate下的栅氧。
25#
發表於 2011-2-15 18:07:55 | 只看該作者
简而言之,我觉得是这样的:' n& l& t* z$ Y
当某一层metal出现了antenna的时候,跳到上一层metal的做法是因为工艺线上在每做一层metal都会进行一次去静电的处理,具体怎样做我也不清楚,然后做平坦化再做另一层metal这样我们跳一次metal,就可以将做好的metal上积累的静电荷泄放掉,这是跳线的根本意义,可以参考The Art Of Analog Layout。至于加diode这个就比较简单了,相信大家都清楚。
9 N/ t( ^4 e( h$ z# c5 U本人拙见,有错请不吝赐教。
26#
發表於 2011-2-18 14:31:20 | 只看該作者
受教了,虽然知道方法,知道大致如何去实现,不过要叫我详细的说出来还是有点难,
27#
發表於 2012-3-28 14:38:43 | 只看該作者
從不明白,看到最後終於明白了,雖說不是本科系的,但一直在這塊鑽研還是有開竅的時候...受教了,感謝各位詳細說明.
28#
發表於 2012-4-20 13:47:40 | 只看該作者
领教了!!!!字数字数
29#
發表於 2012-9-3 17:12:18 | 只看該作者
回復 25# terriours
! L+ |' W9 I) I3 K4 j& }; M
" g% s1 s* _" B/ t) z
* B( t4 z7 n$ r( s+ d; [    工艺线上在每做一层metal都会进行一次去静电的处理       请问确定是这样的吗,谢谢
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