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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
- D2 y1 O/ \! _% d這種架構就類似於Diode-connected Transistor
6 R6 Z, h9 a N, W/ d. @二極體接法形式的電晶體
3 ^! R3 _/ w) n. m8 r' W這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值
+ a# K! a" ?4 u! J; |3 L但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"0 \9 s% R9 X( ?5 i7 o6 \7 g& [
公式的表示方法也不一樣( j5 c d- r. P2 c- h2 k R, O* o
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
& J2 j# q3 `' O; N2 R1 h9 ~$ @9 t: I# u6 t* }' X
而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起4 b( B2 E$ }$ O+ e5 V
利用P-N junction的特性而已( F' l) }9 c% B
8 l( T" g1 y4 [; S }
所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
9 p, T$ G' [6 [0 ]2 s應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
) ^$ s3 R4 i7 I' b9 s2 N+ c
2 B) p2 ]) j& q: \2 q& W但是何者較穩定就不保證了
! _: K, V- M0 X5 R& q2 T* c
, y' ]" a& u' z1 k5 K! W n Z1 V因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference- ^- A3 O) _) f, w& T) ]# d G- D& Q
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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