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回復 1# 的帖子
想要增加 MOS的耐壓程度 以我目前所知, 可以朝兩個方向去思考
8 V/ k H/ @0 F1. 使用 厚oxide的 device! y3 |2 e- N* V- E* l9 ^, i
2. 提高該MOS的 channel length m# C! X* B% `, t3 L e
: J& w/ p/ l2 H1 j5 `0 ]在你的chip當中 輸入輸出介面 MOS的 drain與source比較有機會接到高壓
4 Z( ?- S* V1 A( h, u所以一定要用 厚oxide的 MOS 並且提高 Length到一定的程度 ( 大概是
. c. l( ?# [1 Y3 I! }minimum length的2倍到3倍) 這樣才可以防止 hot-carrier effect.% r. a# C4 A$ t7 ?
+ U3 t6 s; \3 T
所以在設計一個CHIP前 要先想好 哪些BLOCK 有可能會接高壓
" k X# m5 e3 S& m哪些不會, 接電壓的就可以用 minimum length的MOS 以及 薄oxide的
. z* p5 M. [2 {( D1 bMOS來設計電路. |
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