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[問題求助] charge pump PLL中三階LPF電阻電容布局的問題

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1#
發表於 2007-12-6 14:52:42 | 只看該作者 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
各位好:
" w) t8 c( ?+ g, Y$ H' g' W' G( L2 o3 D. e+ f" l; Y
現在我要畫PLL的版圖,其中三階LPF中的電阻和電容,大小值已經確定,但是如何布局我不是很清楚。& |$ P, [  v: o7 {: `& c
) q- [% H( W  k  @
特別是兩個電阻,一個是產生零點的,一個是高階電阻,會給電路帶來高頻雜訊。我該如何floorplan呢?
, q' Z( A* ?2 `5 p) R
* e1 g4 M, g' F3 ~' U' a& q我準備采用poly電阻,并且放在N阱里。但是這兩個電阻是放在一起呢,還是分別畫呢。還需要分別畫guarding ring嗎?1 G8 U9 U: c% l: s

. C  k) b' J' b0 ]4 B* i靜等答復,謝謝各位。1 v% }7 o$ H4 F1 q4 y' s6 M

, Z+ d; Z9 x# o- _: [[ 本帖最後由 liangshangquan 於 2007-12-6 02:53 PM 編輯 ]
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5#
發表於 2007-12-14 18:16:29 | 只看該作者
原帖由 liangshangquan 於 2007-12-12 05:00 PM 發表
% H8 @: @$ j0 d, hyes。我們的采用的兩層poly的工藝,所以選取了ploy,它具有較大的square值,是45歐姆/方塊。選擇diff到也是個不錯的選擇。謝謝樓上兩位的建議。
* }5 D) A' S+ |  y1 `% y2 w& ]% ?6 A* A
還有個問題想請教下,就是對VCO輸出整形的考慮。
3 v9 H# o! T) c1 v6 b原來芯片就是一個 ...
* o' C  G; `1 N0 r4 O+ q5 c8 T3 S

' c0 V4 @- S! _$ F# a( L  L$ S. u: Y# b' Q! k/ g. c  l
一般來說,VCO的output waveform不太可能是rail-to-rail,所以,大部份都會再加一個differential-to-singled-ended circuit(D2S)作為放大之用,除此之外,通常,如果D2S之後若沒有要接降頻(除頻)電路,絕大部份D2S會再加一個duty-cycle corrector特性在裡面, c" r$ a! ~3 b5 U0 A( w
因為D2S只是把VCO的output waveform放大,並沒有波形整形的功用,如果後級電路需要有50% duty cycle的要求,一般來說是加一個除2電路即可,但有時D2S之後便沒有作除頻頻的動作且又要50% duty cycle,那就在D2S之中加入duty-cycle corrector2 u7 ?1 A+ _6 K( D- {
, C& ~# J9 i% D
另外,D2S的操作速度要跟的上VCO,所以,一般而言,D2S也還蠻耗電的,至於它的驅動能力,通常不會設計的太weak
4#
 樓主| 發表於 2007-12-12 17:00:21 | 只看該作者
yes。我們的采用的兩層poly的工藝,所以選取了ploy,它具有較大的square值,是45歐姆/方塊。選擇diff到也是個不錯的選擇。謝謝樓上兩位的建議。7 T% V0 z/ k% M9 Q0 _! x

& f/ k0 C" |) M% n8 }還有個問題想請教下,就是對VCO輸出整形的考慮。, C3 e: p8 z) ?
原來芯片就是一個差分變單端的簡單比較器+一級buffer,我在想能不能將這個比較器設計的更好些以提高其整形的效果呢?! X. L6 J5 c6 L" K  O
還有就是buffer的作用,其輸出信號是輸入到divider中的,我是不是應該根據下級電路的驅動能力來設計這個buffer呢?
; V) A& Q0 T% Lbuffer的尺寸和級數對整形和帶載能力有什么特別的要求沒有?
. R0 |9 k) x1 E' o; P+ y+ p# H4 y$ o; g6 j0 z8 V+ O
3#
發表於 2007-12-11 11:23:28 | 只看該作者

學習在學習

我本身也是做pll的我覺得charge pump與vco的layout佈局是會引響整個performance
, c" d1 [$ U, Q8 J( }; f- M6 |9 `0 `其實layout出來的電容和電阻跟你tapeout回來的值本身也會有一些差距,除非是你很在意你的
: z* E0 Z0 t2 ^( J- U! Ipole,zero的點,那可以考慮common centroid的畫法,去降低process variation
2#
發表於 2007-12-9 10:25:41 | 只看該作者
我個人是覺得LPF中的電阻和電容在LAYOUT上的影響倒是還好# w9 Q+ ]4 X/ O& L
我們當初並沒有特別在這邊花多大的功夫& g  U4 X7 Q" B; u
不過,我不確定你的poly電阻的一個squal有多大,一般來說,poly電阻的一個squal並不大,所以你layout上畫出來應該會有點大,我們之前大部份都是用p+ diff電阻,因為它的阻值較大,所佔的面積就會比poly電阻來的小一些3 n. |9 c; K. W9 T( p) _
在畫PLL,我們最重視的是VCO和charge pump部份的layout畫法和位置安排,因為那會直接影響到PLL的performance,故而,建議你多少些心思在這兩塊電路上的layout,LPF的R,C,我個人是覺得影響不大
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