TSMC 193-nm Immersion Lithography and Its Successors 講議分享

jiming · 發表於 2008-1-9 09:05:34

講者：Mr. Burn Lin, Sr. Director, TSMC 台灣積體電路製造股份有限公司資深處長林本堅博士

41p, 2MB PDF, 4 RDB

• Water immersion at 1.35 NA can support 32nm node at 45nm half pitch.
• Litho technology for 22nm node at 32nm half pitch is not settled.
• We will discuss 4 possibilities here

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wxyz666 · 發表於 2008-3-26 16:30:47

這應該是和光罩有關的主題吧
不過我之前聽台積電的研講~似乎都不怎麼透露比較多的資料@@"
感謝分享

kenjeany · 發表於 2008-4-18 14:41:32

買來看看,也不錯,增長見聞....................................
感謝分享

yutian · 發表於 2014-2-15 17:10:00

thanks for you sharing.
All thanks

yutian · 發表於 2014-2-15 17:11:10

thanks for you sharing.
All thanks

playme4242 · 發表於 2021-10-20 13:20:58

謝謝分享^_^
謝謝分享^_^

photoss · 發表於 2022-2-17 17:37:32

謝謝分享
謝謝分享
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jiming jiming 當前離線積分 25354 IP卡狗仔卡	發表於 2008-1-9 09:05:34 \| 顯示全部樓層 \|閱讀模式講者：Mr. Burn Lin, Sr. Director, TSMC 台灣積體電路製造股份有限公司資深處長林本堅博士 41p, 2MB PDF, 4 RDB • Water immersion at 1.35 NA can support 32nm node at 45nm half pitch. • Litho technology for 22nm node at 32nm half pitch is not settled. • We will discuss 4 possibilities here 購買主題已有 5 人購買本主題需向作者支付 4 元Chipcoin 才能瀏覽
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