本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯
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表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)% [$ V2 Y+ c' g) Y1 k* H8 [
2013排名
. E1 h {$ F+ n' r0 U9 Q: M | 2012; ^! |! x. {4 t& Z9 a, D5 J
排名* X s, h( _& {/ X% [5 x
| 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 1
( H* ?2 C: K" X& v | 1
2 k& U% W, C. O | 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 23 n/ ^8 ^- K6 ~1 m
| 2
5 u1 k, n2 w! K- V7 \1 u | 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 35 Y# [. d: d- `* \! I4 N' v
| 4% o6 A" Q" |4 i' t6 ?
| 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4
7 v- R7 [" l6 [' Y3 U7 B | 33 Y' K) }1 j' x3 L8 `
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 5
8 J3 ^* v9 e$ ^: f9 ]6 Q | 5
" x* |& D, k& q3 b' P; ~2 E4 U1 U | 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 6/ g; Z% D% N5 M3 B
| 6
% U+ S! D1 A" Q" X- r! G | Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7
; X: R1 j; W& D/ T' o$ ^7 [5 n | 8' M! p& J9 I9 L
| 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 8
2 G! D# [1 m3 u& V) J# C4 ^ | 7& H* R* A# D. h* y2 m+ L- R7 A7 C
| 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9& L+ W) M& Z8 |7 |" V6 @, f" a* Q0 H
| 11
. G/ d8 a+ Q4 A | 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10
3 g5 r" [8 M3 {! u5 s' r/ v* R' e | 9
~: D8 L7 o! a$ U% P | Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 |
3 I0 o! ~' \1 [( w* b5 ~" ? | / X' E+ W) J4 j. ]' k- X; I% s
| 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 |
n. t) R, w$ |4 |# C | ) U8 w. x s F
| 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月) 1 n" W ?+ e5 m" }- y4 x1 N
Rinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」 8 z. [/ O- ` [+ v: `( `
2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。 ) x4 e, D b4 k9 Q+ G# B( j
在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |