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回復 7# marvel321 p* q( t$ `3 v& T: E9 M
Dear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。 E: J+ N2 j r" C3 r
这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
9 A" t2 u6 \* ?7 `2 Q& k搜集到的可能的解释有:
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1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)- F1 o# `$ o. @
2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同
9 f: ]' S8 C+ Z; ]( R: j2 |6 U3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同' u* c" k8 F/ H
4:浮栅初始电位差异9 w+ b( D! i) ~3 ?2 V5 o
4 f& O0 m+ m8 A5 T) M
对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。
$ K6 r- t$ q2 i/ S2 P5 g h! E对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?% F3 _+ m2 e6 K4 @6 q
对于3,缺乏资料,待验证7 j, R- F4 d9 N
对于4,我最认可的答案
& A" ?0 U- m3 t
$ D5 R3 p! z3 t! F但是# s3 R. y J- e. W8 n' f
若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。
; U: J4 X1 I2 U* Y" V但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。
' r6 ]* D% z' y我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。
O4 J4 Z9 E& f而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。
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7 F! D3 Y- D7 \% A+ x2 J+ h$ s: u问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。& |+ R% G! c+ C$ N6 e: W
其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响
: I2 p- Z3 Z3 r悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。 |
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