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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 顯示全部樓層
回復 1# scy8080 7 b2 F! M; F1 y  X: Z0 o4 z
8 V( K9 |0 V1 f/ C
! @! F3 Q- c" g& l
   
6 P7 T- n$ y6 C' d! [ 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
6 i# X# P, x2 Q, {2 \很可能打坏core里的device。5 M9 }% _0 |8 e& D# R% {
 
2#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 顯示全部樓層
最好不要超過 1 ohm,谢谢  m5 u% A8 Q( H" }0 ]$ o
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 .../ x) \; c4 _) w
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
, o+ |' `+ G' M4 R6 K
# l1 f) l- F$ f6 w
6 W! ^8 s+ x% m0 G3 X! D8 p
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
- t/ R! `0 Z3 j3 J8 j8 t很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
, L& t- V/ L' x+ o: A/ s来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
3#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 顯示全部樓層
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
/ U* Y2 L, r8 [" Yscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
' i" p" f7 x+ M6 E5 z

7 G0 e0 G7 z$ E拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),. D. S; X) d& p: t% M) i+ V
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
9 Y# o* I* z/ h8 ]. R  n(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
1 H( N( U  k, }1 S4 r+ Xnpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
( {8 M* p% e' C- N  H/ X; t4 E必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小  |  ]8 b8 j) M
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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