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阿托科技 開發晶片堆疊製程技術 提供3D IC技術發展聯盟關鍵及藥水
【新竹訊】L3D IC封裝是半導體業新一輪競賽,誰能先馳得點,攸關下個10年的競爭力。晶圓代工及封測界龍頭台積電與日月光均如火如荼開發相關技術,阿托科技也不會在這場畫時代的戰役缺席。5 r" A9 Z! M6 ~
% O |, ^4 z7 z6 i+ N/ G0 `由工研院為主,包含矽品、聯電等半導體各領域業者所形成的3D IC技術發展聯盟(Ad STAC),協同阿托科技開發晶片堆疊等相關製程技術,尤其針對矽晶圓穿孔電鍍技術(TSV)。阿托科技德國總部及台灣技術中心皆投注大量人力及資源,在技術開發過程提供技術協助及解決方案。
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TSV是實現3D IC的重要技術門檻,ATOTECH為了開發同時兼顧不同孔徑之製程填洞能力,不斷進行添加劑的開發及改良。除了積極投入自身的製程研發,也與半導業界設備大廠進行異業結合,以製程及專業設備的設計搭配,達到最佳的製程表現。
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; |! I% ^: A6 s T1 r阿托科技投入半導體設備設計研發及製作已2年,以在封裝載板設備製作的多年經驗,成功複製到半導體領域。首次針對半導體產業發表的製程設備Multiplate,突破傳統晶圓電鍍思維,直接開發應用於晶圓雙面電鍍的系統,包含完整的硬體製程系統及藥液,引起Intel等國內外大廠青睞。' k2 w3 t* W; [, O' e% z
' k) B- q2 U, |; Z這等於宣告半導體的技術競爭已進入全新世代,大廠的動向及進展具有強烈的示範性,除了令競爭同業神經緊繃,也在產業上下游掀起震撼。
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阿托科技董事總經理黃盛郎表示,桃園觀音廠的ATOTECH半導體研發中心,以研發最先進的半導體技術為使命,積極與國內晶圓及封裝大廠接觸,在半導體先進製程研發合作;此外,為擴大服務範疇,透過工研院平台,在院內建置ATOTECH的雙面晶圓電鍍機台(Multiplate),藉由聯盟運作及推廣,使該製程技術在業界生根、普及應用。4 X& G0 C: A0 M" F5 v" w, ^
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目前在阿托科技半導體中心所進行的測試數據,品質及填孔效能方面均符合設定目標,但可靠度需要長時間來驗證,明年將逐漸轉進到量產階段。+ N1 J( v c' M+ i
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目前封裝端端的應用需求,初期主要以Interposer(中介芯片)應用為主,例如應用於內埋式被動元件及LED散熱基板等。就未來3D IC技術發展而言,Interposer的應用扮演重要的角色,如此雙面填孔技術臻於成熟,預估當業者投入量產後,設備需求上看數十條,為數十億元的大投資。 |
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