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[問題求助] 請問關於POWER MOS 的layout

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1#
發表於 2008-9-27 13:27:55 | 顯示全部樓層 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
如題, 請問各位LAYOUT達人, 在設計POWER MOS 的LAYOUT時
8 T$ u" T- J& n( h% V) L7 `
4 h, X) e  U& ]# y7 x& L/ h7 \7 r有沒有比較省面積又可以降低RDS的做法呢?有參考資料可以提供* z& D5 |1 M* q: |" L+ X

& a5 z3 O) r& V* l1 m/ A小弟研究一下嗎? thanks
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2#
 樓主| 發表於 2008-10-13 22:44:59 | 顯示全部樓層
請問CM168899, + X, p& h/ f5 W1 K, J' K9 _

; _" P% `9 Q/ `共用drain 會讓RDS變小的原理是甚麼原因呀?小弟不解,煩請解惑, thanks
3#
 樓主| 發表於 2008-10-15 23:10:04 | 顯示全部樓層
可是從書上要降低RDS的方式無非是加大(W/L) ratio, 或是提高(VGS-VTH),
& d: ]  t: X+ X4 \- r1 O3 M& m  @  a) |2 m
因此通常POWER MOS的面積都不會太小, 所以才有書上non-conventional的LAYOUT方式5 A. y0 _* Y. H4 @# A

8 @$ k( |% ]2 [/ R( V目的也是提高單位面積內(W/L), 因此小弟不解POWER LINE的PLAN指的是METAL的拉線嗎?5 n: j; F& z/ W; n7 S: _" i( b

+ s4 |3 @$ G' b: f煩請高手替小弟解惑, thanks
4#
 樓主| 發表於 2008-10-18 23:21:18 | 顯示全部樓層
恩, 小弟同意樓上小包兄的見解, 通常w/L並無法無限制加大, 雖然這是最有效降低RDS的ㄧ個方法
8 l, k/ {; u0 |) ?& q+ i- g% }9 E0 u( w5 K  O0 Q8 s7 F
其實, 所謂的"較低的RON"應該是在相同的LAYOUT面積下來比較才有意義, 也就是說在相同的面積下- B: F, i5 s5 v/ @3 f! T* D! j/ f

* x4 C; x/ B8 j6 O; d創造出更大的W/L比值, 當然各家方式不一, 只是您所說的metal line plan真是會造成無法降低2 e- w! A" u3 P3 [

3 {9 n& X; B& J/ L6 j# y& j  x' qRON的 bottle neck , 這點小弟是比較需要好好了解一下說, 通常metal 的走線應該也是儘量加大線寬
5 ?) ~7 T8 @- o/ e2 ]
$ x9 k: t6 U8 _' i3 v/ v* Y2 X還是有其它方式, 小弟願聞其詳
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