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經濟部技術處ITIS計畫王惠芳 # A* I# T" p5 E# a" b+ i" h# n
一、前言- p$ X9 q* D8 w: J$ C
光阻經由照射之後,會產生化學反應,再經由顯影(Developing)的製程將圖案定義在基材上,目前常用的顯影液為TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide) 氫氧化四甲基銨,化學式為(CH3)4NOH。經照射後因照射區與非照射區在顯影液中溶解度不同,顯影液可將易溶的部份溶解,而達顯影的目的,當光阻為正型時,照射區產生化學反應,主鍵斷鍵並發生極性變化,非照區則不易溶解於顯影液中,溶解速率可達十倍以上,負型光阻則是照射區產生交連,不易溶解於顯影液中,與正型光阻之反應相反。顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品,產品純度由TMAH原液以及超純水品質決定,為此超純水的製造以及TMAH原液製造方法的不同,將影響製品品質之純度,因此,目前的供應來源仍以國外技術來源居多。g-line、i-line以及DUV光阻所需的顯影液普遍是2.38%TMAH(統稱NMD-3),特殊需求會再做客製作的調整或是面板廠內部自行調整。
' P5 ]% K% \$ y. R二、日本與台灣IC顯影液需求2 g/ o8 ]& |8 d0 e
日本國內主要是三大公司瓜分,東應化TOK、多摩化學以及日本德山Tokuyama各佔有三分之一的市場,提供給IC半導體用的數量為6000噸,市場約為日幣17億元,這三家供應商同時也是LCD顯影液的主要供應來源。
' c7 ]) Y, P6 z. M4 z% x供應給IC顯影劑的廠商也是以東應化TOK,多聯,日本德山Tokuyama為主,其中以TOK市佔率最高,佔有50%以上的市場。2006年顯影劑市場需求約有40000噸,市場值在12.1億左右,預估2007年隨著12吋晶圓擴廠,需求跟著上升,預估成長10%左右。 . L% a- Q- z* G X, T0 c
表一 2006年日本及台灣顯影劑的市場規模
; v. c3 E" B+ W7 S4 x區域 | 濃度基礎 | 需求量(噸) | 需求值 | 國內/國外供應商 | 日本
+ ?7 w* r! X' |; N | ~20%
+ N5 t8 k, i# r- R' W! w9 M9 F | 6000 , m: k( s" b+ v$ b- G
| 日幣17億元 , _% u2 A) d, A" W/ J
| TOK,多摩,Tokuyama | 台灣
8 `. t4 U" x3 L* W8 ?! G, x | 10~25%
/ o* d# ?4 U3 t$ _$ `. e/ E3 r- M# t( B | 40000 8 c8 k4 \' s+ K; H7 w, f
| 台幣13億元
0 |+ ~" Y/ }% U9 [$ s* I0 e | TOK,多聯,Tokuyama |
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資料來源:富士經濟2007/03;工研院IEK2007/08* @, q0 F1 A S7 x6 U6 n# ?9 I
由於顯影液的需求量大,單位售價也較光阻低,競爭激烈,因此供應商考量成本以及直接供應國內面板廠,普遍皆在國內設立製造廠,或與本土業者合作生產。TOK與長春化學技術合作,生產化學品供應半導體及光電產業,多聯由三聯科技與日本多摩化學(TAMA)合資成立,跨國合作成立專業化學廠,日本德山Tokuyama則在台灣尚無技術合作夥伴。
- k& n, G& h4 o. V+ F* _: @國內本土產業投入製作顯影液,一方面需投入高成本購買純化設備,另一方面須有自己的專利技術,再加上目前每公斤單價以相當低廉,須有足夠的資源及技術,再投入會比較合適些,最合適的策略就是與國外知名大廠進行技術合作,既有成熟技術為後盾也既有客源,屬WIN-WIN的合作模式。 |
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