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EV GROUP在奧地利企業總部完成最先進無塵室設施興建

2020-7-23 09:43 AM| 發佈者: SophieWeng@G| 查看: 498| 評論: 0|來自: EVG GROUP

摘要: EV Group宣布已在奧地利的企業總部,完成全新五號無塵室大樓的興建。採用最新無塵室設計與建築技術,並讓EVG總部的無塵室產能幾乎增加一倍,未來將用於開發產品與製程的展示設備、開發原型機和試量產的服務。五號無 ...

微機電系統(MEMS)、奈米科技與半導體市場的晶圓接合暨微影技術設備之領導廠商EV Group(EVG)今天宣布已經在奧地利的企業總部,完成全新五號無塵室大樓的興建。全新的大樓從頭到尾採用最新無塵室設計與建築技術,並讓EVG總部的無塵室產能幾乎增加一倍,未來將用於開發產品與製程的展示設備、開發原型機和試量產的服務。五號無塵室大樓是去年宣布的3,000萬歐元投資的一部份,預計將於八月正式啟用。

全新的五號無塵室大樓直接與EVG現有的無塵室及應用實驗室相連,可以提供約620平方公尺十級無塵室的額外樓板空間。新大樓同時設有可在EVG設備平台上訓練客戶與工程師的多個專屬區域的現代化訓練中心。這次的擴大投資也包含現有的無塵室與應用實驗室設施的升級,並確保最高的妥善率與全新的安全功能。


圖1:EV Group的全新五號無塵室大樓使EVG總部的無塵室產能幾乎增加一倍,並設有提供客戶與工程師訓練且具有多個專屬區域的現代化訓練中心


圖2:EV Group的五號無塵室設施的先進附屬製造無塵室(sub-fab)用以確保最高的妥善率與全新的安全功能

強化EVG的核心技術

全新的五號無塵室大樓增加的產能,將強化EVG提供世界級製程開發服務的NILPhotonics®技術中心與異質整合(Heterogeneous Integration)技術中心™的能力,並為微電子供應鏈的客戶與合作夥伴,提供開放的創新育成中心。透過這些卓越的核心技術,EVG協助客戶加速技術開發、將風險降至最低,並利用奈米壓印微影技術與異質整合,協助開發出具差異化的技術與產品,同時確保發表產品前所需的最高智慧財產(IP)保護標準。


EV Group技術開發和IP總監Markus Wimplinger表示:「我們對於興建這座全新無塵室所涵蓋的技術創新與專業知識,感到非常自豪。從整座建築到最微小的細節,這可謂一座真正世界級、最先進的設施,可以說是與一些歐洲技術最先進的無塵室平起平坐。對於EVG而言,這座新設施將大幅強化我們與客戶共同開發未來應用與技術的能力,我們認為它將讓近來特別活躍且需求極高的技術中心受益。我們的NILPhotonics與異質整合技術中心提供的獨特服務,讓我們的客戶與合作夥伴得以縮短開發週期,並在這些關鍵的應用領域打造出卓越的產品。」


圖3:EV Group的員工正在最後確認最新且最先進的五號無塵室設施的內部,其中包括專門的共同開發區域,預計將於八月正式啟用

擁有各個技術中心與強大客戶夥伴關係的EVG處於獨特的地位,可以為客戶提供不間斷的製程開發服務與支援。在此同時,EVG的在地安裝與支援團隊以及遠端的支援能力,讓EVG的設備得以持續進行優秀的安裝與服務。

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