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[問題求助] DRC 出現的錯誤

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1#
發表於 2008-1-6 23:58:36 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
在DRC時有兩個錯誤不知道如何解決,又看不懂希望能給我解答。: f& n+ O2 G, z* r& O4 c
謝謝!!
& Y) {8 t1 ~) n* q( [0 l* c1. PO.R.1 { @ Min poly area coverage < 14%
/ ?3 \( ?" l/ r5 M   DENSITY POLYI INSIDE OF EXTENT < 0.14 PRINT POLY_DENSITY.log
6 p* _% N9 O( \* U- r}7 K3 S2 G  v9 I% o8 h
2. M1.R.1 {@ Min M1 area coveger < 30% & P1 R, Y5 l/ A% ]  s
   DENSITY M1I INSIDE OF EXTENT < 0.3 PRINT M1_DENSITY.log1 e0 E# q2 R7 I
}
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2#
發表於 2008-1-7 00:24:58 | 只看該作者
如果你是要下晶片,那最後有多餘的空間上補上poly &metal1即可
5 E& S0 U5 e( M; c- X/ Y4 L如果你不需下晶片,那這個跑DRC時可以忽略, b0 g: z+ E4 I% l& J
PO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%, V' y2 {( B! ~! Y4 h+ j9 W7 c
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14%
3#
發表於 2008-1-8 09:54:33 | 只看該作者
說的沒錯,但好像有筆誤:  V; [5 n/ o9 Z8 K* N" R4 i) Z
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14% ---> 小於30%
4#
發表於 2008-1-8 17:08:51 | 只看該作者
一般 POLY & MT1 density 不夠應該是 whole chip device 不多造成,如果 chip 還有面積的話,建議加一些 VDD<->GND MOS CAP ,如此可以同時提高 POLY & MT1 density .
5#
發表於 2012-2-3 19:05:14 | 只看該作者
小弟的淺見...5 ^, O5 A$ `* D/ Z$ W$ m* S
這應該是poly與metal的density的問題....
2 C3 {- T, g# v5 q) K- z7 U/ YPO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%
  f% [9 x% q/ x' g2 l7 sM1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於30%
4 k* O/ M+ f" z& X  ?0 e好像增加poly跟metal1就可以解決的樣子
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