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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?
# {6 ~$ m* q. w再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?. j0 J- {7 H( R$ r
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯 $ K8 C% w& Z9 t4 D7 D2 i: H1 E' [3 W
4 r% M' `' V2 z  P0 u4 o  ?; ?
如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。
& ^% M4 H0 u+ f# ]$ F6 S. p1 n3 s會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
( _4 w0 N; g9 A. b* Y6 f& T' B5 t) Q8 A# U: Y$ D
S/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外
% X/ A& _; V, z, i0 L7 b也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。
1 l( d! n* |$ o# z; ?
4 X- p' ?& C  M+ `1 }1 \( D這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...
3 y& {1 r" e& ?意思都差不多,我大概能了解了...
0 ?, H; k  t$ F( G% ^1 G8 E至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?; i/ k4 P  i1 {$ L: q& K
謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB
( I: m  |0 a$ c0 N8 F# {不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白
$ m$ J" [) B0 C' b# H5 L
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,, Z8 i0 S, n( D) J; B
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,
, y2 X" F% j6 i9 j有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?! V& t3 Z' R4 n) O
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次7 c& [6 p3 L) N, F
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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