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我最近剛接觸TSMC 0.18um製程,想在電路裡面製作一個較精確的電阻
3 `; |/ [ o1 O- ?4 ^& _7 [這個電阻是要用在高增益高頻寬轉阻放大器(TIA)當中當作resistive load使用,大小是數個kohm) U* F6 ^2 O4 y/ Q) K6 y# k, `' i
( d& m. W9 Q1 g: n- n
目前查過製程文件資料,發現diff電阻的sheet resistance (Rsh) 的變異量似乎比poly電阻更小
; `+ w6 N# H1 B! cp+ poly w/i silicide Rsh變異約 30% (7.x 正負 2.x)
+ d& K, O8 r% c! S1 Mp+ poly w/o silicide Rsh變異約 15% (3xx 正負 50.x)
% a# u3 Y" ^' k7 t+ ?3 On+ diff w/o silicide Rsh變異小於 10% (5x 正負 5.x)
G/ k4 P8 S5 j0 a8 \, f5 N6 L: a& j2 W
但是查了一下先前論壇上的文章,似乎是說poly電阻做的比diff電阻更精準??
6 c( D8 L9 Y4 T. h' \可以請各位前輩說明一下嗎?7 c% {9 H% [7 a+ p3 ?! w
5 ^! m6 D5 o- `2 Y4 t: R3 @另,如果想要使用這些電阻做為resistive load,是建議使用poly w/o silicide 還是 diff w/o silicide呢?& x# K, `& ~: W2 k8 i E# U
感謝回答。 |
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