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我最近剛接觸TSMC 0.18um製程,想在電路裡面製作一個較精確的電阻
' P+ t/ q. G6 E& }這個電阻是要用在高增益高頻寬轉阻放大器(TIA)當中當作resistive load使用,大小是數個kohm( C, V: A, p2 C$ y) J" h! H0 y: T
- A, I2 L4 Q$ ^5 o# M3 Y- E目前查過製程文件資料,發現diff電阻的sheet resistance (Rsh) 的變異量似乎比poly電阻更小. y1 u; z; ]: R/ U
p+ poly w/i silicide Rsh變異約 30% (7.x 正負 2.x)3 U9 W$ ~( ?# V K: z/ G
p+ poly w/o silicide Rsh變異約 15% (3xx 正負 50.x)" w2 ] y0 t W. I
n+ diff w/o silicide Rsh變異小於 10% (5x 正負 5.x)
+ V/ T; _) C; B) x# a3 k3 Z7 N$ v7 \6 H+ M; A2 g- n% [. ~
但是查了一下先前論壇上的文章,似乎是說poly電阻做的比diff電阻更精準??" s* S. O: ]; t/ d k1 Z' b
可以請各位前輩說明一下嗎?
# N- y6 i2 P) l8 O, M; d
$ i3 @) F {# V- R) p6 ~另,如果想要使用這些電阻做為resistive load,是建議使用poly w/o silicide 還是 diff w/o silicide呢?* o2 g8 g" ^1 k: ?1 c
感謝回答。 |
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