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[問題求助] ESD防謢電路中,MOS的source與Drain大小不一樣,請問為何呢?謝謝!

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1#
發表於 2012-3-6 06:29:41 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain大小不一樣,請問有什麼作用?
& H6 U8 |" H  F/ q再請問大的一邊是接Source or Drain 呢?與Pad有關嗎?: f% H; d- y" E  }3 R
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
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2#
發表於 2012-3-7 11:30:38 | 只看該作者
基本上 接PAD的部分會比較大 讓其具有較大的表面電阻 讓靜電電流走比較深層
3#
發表於 2012-3-7 11:34:07 | 只看該作者
本帖最後由 despair 於 2012-3-7 11:37 AM 編輯 . i3 u' `" M: }8 d
, v/ Q3 q" q& U; R
如針對source與drain面積大小不同進行討論,主要原因為抗ESD電流的衝擊。- _* j; w& p% S9 k5 D2 Y8 }( ~4 |" r
會有大小面積的差異,來因從PAD來的信號多會有ESD damage的問題。
- \) g, L2 E& T/ l1 b$ a( t
5 Z+ b# V/ z( D  ~  pS/D若接點看到的是從PAD接過來的信號,該接點除了co to poly之間會有較大的rule外, {* d# x& u/ ^# r$ C* [/ p3 O
也會多層silicide bloak增加通道表面阻抗讓ESD電流走well這部份 ,用來抵抗ESD電流避免oxide or gate poly遭到破壞。
& s  S2 j& v+ S. n' \( q& H
5 g8 K9 h  @, t8 p+ o. ?1 D這只是相關ESD guidelines的一小部份,若要全盤了解還需要多查資料~加油。
4#
 樓主| 發表於 2012-3-8 15:11:20 | 只看該作者
謝謝兩位大大的解答...
6 v5 Z! c9 M0 c2 X7 w3 Q  {意思都差不多,我大概能了解了...5 Q+ [5 v. I9 y) t' K2 s/ w
至於多一層silicide這部份,是指多加一層RPO嗎?+ y( J9 ^; w& h" l- W( U" F  Z
謝謝!
5#
發表於 2012-3-9 09:37:33 | 只看該作者
部分foundry是叫做RPO,或者又叫做SAB& k7 n7 K4 V+ N* Z* ^0 Q
不同晶圓廠都有不同的稱呼
6#
發表於 2012-3-9 09:41:02 | 只看該作者
看了还是一头雾水,没看太明白
: h0 N6 o* k, V; w& j, \
7#
發表於 2012-4-20 11:17:57 | 只看該作者
我的ESD防謢電路中,MOS的Source與Drain的SCG及DCG都有加長,( [- f) u0 ^4 n# m: l1 p
SCG約為DCG的一半,HBM可過+/-8KV, 但MM只能過+/-300V,0 Q" o, n, e: Y3 {/ c
有做delayer, 發現是死在source與poly的介面, 請問為什麼?: V& B2 p* H. l9 z! ?  Z6 H
知道答案的大大,請為小弟解答一下,謝謝!
8#
發表於 2012-4-29 16:54:08 | 只看該作者
看一次看不懂..看第二次5 M' d2 O# u1 Z( T+ t
看第二次~不懂還是不懂~等遇到才知道
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