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[問題求助] 請問各位大大,關於MOS電容下極版問題

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1#
發表於 2010-4-12 18:07:01 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
若是NMOS做的電容
# q& x9 s+ x2 `  @) X2 s: g# I上極是版G極,絕緣層是薄氧化層,那下極版是基底還是N通道呢?我有查書說明有三種狀態
9 o' ^, T7 T- `9 M! y; d1,通道未型成時) \6 r3 X0 e, c" Q0 l8 n
2,三極管區
# C* _  Q/ W3 ^* s7 \5 }2 P3,飽和區& x1 e- a' y7 z2 X% P
但是RD通常叫我算POLY跟OXIDE重疊的面積就好
2 Z/ o7 m  g- r) @# `這樣是操作在哪一狀態呢???
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2#
發表於 2010-5-3 20:21:49 | 只看該作者
3,飽和區
1 U7 q+ j0 H; a8 Y6 |通常 depletion 都要形成,電容值才會穩定
" o& f; e  n- S所以使用的範圍 Vg 會超過 Vtn ,
4 E2 B7 S. N) d, [2 f1 K& T6 [如果想要使用雙向電容的話,可以用 barrier N+ , let mos always turn on.
3#
發表於 2010-5-5 10:56:09 | 只看該作者
通常應該是工作在  (2,三極管區),因為MOS電容的S,D,B三個腳位會是接在一起,Vgs=Vgd,所以是在三極管區,在電路設計上,MOS電容通常是由W和L的面積算出來的,但會非常不準,通常是用在穩壓用,而且在不同的電壓時,電容值會不同(Razavi的類比IC設計第二章),要大於Vth後電容值才會較穩定,且不適合當雙向電容使用(如OP的miller 補償電容)。
4#
發表於 2010-5-5 11:01:14 | 只看該作者
工作在反型层 状态
5#
發表於 2010-5-28 00:17:31 | 只看該作者
example for NMOS :: `$ C; A! L9 j% Z7 h1 s
Vg > Vth MOS at deep triode region, MOS Cap at strong inversion
3 w& g8 ?# h- W: j6 }! g( H9 e3 PVg <Vth MOS OFF, MOS Cap at accumulation. E1 ~3 J! {0 B/ G0 t9 t

5 k. q1 q/ ]4 `9 `1 s( {7 YYou can see Razavi Chap2 pp. 39
4 Q* H* R$ B4 M4 b' @8 WGood Luck ~ !
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