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[問題求助] 請問各位大大,關於MOS電容下極版問題

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1#
發表於 2010-4-12 18:07:01 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
若是NMOS做的電容
4 J" m! \: V& d) q4 o8 Z上極是版G極,絕緣層是薄氧化層,那下極版是基底還是N通道呢?我有查書說明有三種狀態
7 t0 V6 h' N9 H( D% u4 a) W1,通道未型成時
# v/ p+ _9 H- u2 r% U+ z+ c" E- s2,三極管區% F3 K1 w% F# B# D4 N
3,飽和區, u  h6 Q7 a% ]# Y5 U, z
但是RD通常叫我算POLY跟OXIDE重疊的面積就好! P2 Y' ]: a) k, W' Q- O/ U
這樣是操作在哪一狀態呢???
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2#
發表於 2010-5-3 20:21:49 | 只看該作者
3,飽和區
/ Q- A3 i! u& _1 c通常 depletion 都要形成,電容值才會穩定
  z7 B: a0 \2 @! A$ H所以使用的範圍 Vg 會超過 Vtn ,
/ @5 [4 u7 d' R# P. }9 b如果想要使用雙向電容的話,可以用 barrier N+ , let mos always turn on.
3#
發表於 2010-5-5 10:56:09 | 只看該作者
通常應該是工作在  (2,三極管區),因為MOS電容的S,D,B三個腳位會是接在一起,Vgs=Vgd,所以是在三極管區,在電路設計上,MOS電容通常是由W和L的面積算出來的,但會非常不準,通常是用在穩壓用,而且在不同的電壓時,電容值會不同(Razavi的類比IC設計第二章),要大於Vth後電容值才會較穩定,且不適合當雙向電容使用(如OP的miller 補償電容)。
4#
發表於 2010-5-5 11:01:14 | 只看該作者
工作在反型层 状态
5#
發表於 2010-5-28 00:17:31 | 只看該作者
example for NMOS :' b7 @+ P% f5 S- S" k9 [8 n; Q
Vg > Vth MOS at deep triode region, MOS Cap at strong inversion
) O* c6 `* Q' Y1 X: d$ uVg <Vth MOS OFF, MOS Cap at accumulation
- C7 j+ L( w9 z1 x+ Q; Y7 O
- g, Q3 q0 ^; I$ l% s  cYou can see Razavi Chap2 pp. 398 {+ ~1 Y9 \9 y) X
Good Luck ~ !
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