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[問題求助] DRC 出現的錯誤

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1#
發表於 2008-1-6 23:58:36 | 只看該作者 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
在DRC時有兩個錯誤不知道如何解決,又看不懂希望能給我解答。
; U, q! p( {9 k* x1 ]! g% {謝謝!!) }* B5 {/ B( O6 z! X2 F1 s
1. PO.R.1 { @ Min poly area coverage < 14%9 O7 c3 `2 X: s4 Z+ p
   DENSITY POLYI INSIDE OF EXTENT < 0.14 PRINT POLY_DENSITY.log
/ d. b1 i* x, I# V, t}! u2 Q  N% O2 [# I
2. M1.R.1 {@ Min M1 area coveger < 30% # Q9 d; u5 y0 C- ^
   DENSITY M1I INSIDE OF EXTENT < 0.3 PRINT M1_DENSITY.log6 @- \7 X3 k) [: N
}
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5#
發表於 2012-2-3 19:05:14 | 只看該作者
小弟的淺見...* M, H$ \. V% N' D1 \
這應該是poly與metal的density的問題....
8 {  {$ _6 J6 NPO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%
# B+ @+ N$ N5 fM1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於30%7 Y0 o+ b9 D5 @. V
好像增加poly跟metal1就可以解決的樣子
4#
發表於 2008-1-8 17:08:51 | 只看該作者
一般 POLY & MT1 density 不夠應該是 whole chip device 不多造成,如果 chip 還有面積的話,建議加一些 VDD<->GND MOS CAP ,如此可以同時提高 POLY & MT1 density .
3#
發表於 2008-1-8 09:54:33 | 只看該作者
說的沒錯,但好像有筆誤:# J5 J9 Z! H+ Y+ g" y! y$ y  Q
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14% ---> 小於30%
2#
發表於 2008-1-7 00:24:58 | 只看該作者
如果你是要下晶片,那最後有多餘的空間上補上poly &metal1即可! Y1 j6 }9 H0 C& H; j8 }- [
如果你不需下晶片,那這個跑DRC時可以忽略
# L: o/ E% F+ Y0 ?* KPO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%% n* X! T6 i5 n
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14%
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