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是關于MIM CAP : R% |% _% [* F; K1 A* {$ A6 H- [. b
依據design Rule,如果需要better matching and process behavior uniformity,可以在MIM電容四週做一層環狀DUMMY CTM層和Dummy Metal,但是同時要求這個dmmy ctm 層上不允許做 VIA(top),也不允許在下面做VIA(top-1),那么是不是意味DUMMY CTM隻能Floating了呢?
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/ F* s, p: T3 z還有,做CTM ,或者Metal(bottom)的dummy是否有傚果呢,ctm層不太暸解,但是,電容下層金屬也需要做dummy嗎?如果我隻是做了CTM的dummy,那這個Dummy CTM應該接什么電位?感覺Floating總是不太好.
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8 s5 ?) [2 G" |" p/ i5 D另外想請教下,若果是普通的DUMMY cap,它的兩個電極應該怎么接,接到GND,還是VDD,或者直接讓他Floating了,還是兩個電極用金屬連接在一起而后接到所使用CAP的隨意一個端上? |
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